TAKAMI 高機能啫喱成份 | CosDNA

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發表於 2018-07-16 , 資料來源：官方網站

成份	概略特性	粉刺	刺激	安心度
Aqua 水	溶劑			1
Glycerol グリセリン甘油, 丙三醇	溶劑, 黏度控制, 肌膚調理, 保溼	0	0	1-2
Pentylene Glycol ペンチレングリコール戊二醇, 1, 2-戊二醇	保溼			1
Sorbitol ソルビトール山梨醣醇, 山梨糖醇, 山梨醇, 葡萄糖醇, ...	黏度控制, 肌膚調理, 保溼	0	0	1
Trisodium ascorbyl palmitate phosphate パルミチン酸アスコルビルリン酸３Ｎａ維他命C酯磷酸鈉鹽	抗氧化
Ascorbyl Glucoside アスコルビルグルコシド維他命C配糖體, 維生素C醣甘, 維他命C醣甘, ...	抗氧化, 美白			1
Magnesium Ascorbyl Phosphate リン酸アスコルビルＭｇ維他命C磷酸鎂鹽, 維他命C磷酸鎂, ...	肌膚調理, 抗氧化, 美白			1
Sodium Hyaluronate ヒアルロン酸Ｎａ玻尿酸鈉, 透明質酸鈉, 玻璃酸鈉	肌膚調理, 保溼	0	0	1
Gynostemma Pentaphyllum Extract アマチャヅルエキス絞股藍萃取	肌膚調理, 收斂			1
or Gynostemma Pentaphyllum Leaf Extract アマチャヅルエキス絞股藍葉萃取	肌膚調理			1
Arginine アルギニン精氨酸	抗靜電, 肌膚調理, 保溼			1
Creatine クレアチン肌酸	肌膚調理			1
Biopeiderm ビオチン生物素, 維生素H, 維生素B7, 輔酶R				1
Riboflavin リボフラビン維他命B2, 核黃素	色料			1
Calcium pantothenate パントテン酸Ｃａ泛酸鈣	抗靜電			1
Vitamin B6 Hydrochloride ピリドキシンＨＣｌ吡多素 HCL, 鹽酸吡哆辛, 吡哆素 HCl	抗靜電, 肌膚調理			1
Glucosyl Hesperidin グルコシルヘスペリジン葡萄糖基橘皮柑, 糖化橙皮苷, 醣化橙皮苷, ...	肌膚調理, 保溼			1
THIAMINE HCl チアミンＨＣｌ硫胺素 HCL	肌膚調理
vitamin E トコフェロール生育醇, 生育酚, 維他命E, 維生素E, ...	抗氧化	2-3	2	1
Tocopheryl Acetate 酢酸トコフェロール醋酸鹽維他命E, 醋酸生育酚酯, 生育酚醋酸酯, ...	肌膚調理, 保溼, 抗氧化	0	0	2-3
Buxus Chinensis Oil ホホバ種子油荷荷葩油, 荷荷巴油, 荷荷芭油, 霍霍巴油, ...	保溼, 油性滋潤	2	0-2	1
Acrylates/C10-30 alkyl acrylate crosspolymer （アクリレーツ／アクリル酸アルキル（Ｃ１０－３０））クロスポリマー丙烯酸/C10-30烷基丙烯酸聚合物, ...	黏度控制			1
Betaine ベタイン甜菜鹼, 三甲基甘氨酸, 甜菜碱, 甜菜堿	黏度控制, 抗靜電, 保溼			1
Carbomer カルボマー卡波莫, 卡波姆, 聚羧乙烯, 卡波樹脂	黏度控制	1	1	1
Phenoxyethanol フェノキシエタノール苯氧乙醇, 苯氧基乙醇, 二苯氧基乙醇	防腐劑			2-4
KOH 水酸化Ｋ	酸鹼調節			2-5

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