RNW 祛痘面膜成份 | CosDNA

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發表於 2019-09-17 , 資料來源：官方網站

成份	概略特性	粉刺	刺激	安心度
Water 水	溶劑			1
Methylpropanediol 甲基丙二醇	溶劑			1
Propanediol 1, 3-丙二醇	溶劑, 黏度控制			1
Glycerin 甘油, 丙三醇	溶劑, 黏度控制, 肌膚調理, 保溼	0	0	1-2
1,2-Hexanediol 1, 2-己二醇	溶劑			1
Sodium Hyaluronate 玻尿酸鈉, 透明質酸鈉, 玻璃酸鈉	肌膚調理, 保溼	0	0	1
Ethylhexylglycerin 乙基己基甘油				2
Centella Asiatica Leaf Extract 積雪草葉萃取	肌膚調理			1
Butylene Glycol 丁二醇, 1, 3-丁二醇	溶劑, 香料, 黏度控制, 肌膚調理, 保溼	1	0	1
Dipotassium Glycyrrhizate 甘草酸鉀, 甘草酸二鉀鹽, 甘草酸二鉀	鎮靜消炎, 抗敏			1
Salix Alba Bark Extract 白柳樹皮萃取	肌膚調理, 鎮靜消炎, 收斂			1
Caprylic/Capric Triglyceride 辛酸/癸酸三酸甘油酯, 辛酸/癸酸甘油三酯, ...	香料, 肌膚調理	1		1
Melaleuca alternifolia leaf oil 互生葉白千層葉油, 白千層葉油, 茶樹葉油	香料, 抗氧化			6
Chamaecyparis Obtusa Oil 日本扁柏油	香料			1
Alcohol 乙醇, 酒精	溶劑			1
Polyglyceryl-6 Caprylate 聚甘油-6 辛酸酯	柔潤劑, 乳化劑			1
Polyglyceryl-4 caprate 聚甘油-4 癸酸酯	乳化劑			1
Betaine 甜菜鹼, 三甲基甘氨酸, 甜菜碱, 甜菜堿	黏度控制, 抗靜電, 保溼			1
Panthenol 維生素原B5, 維他命原B5, 泛醇	抗靜電, 肌膚調理, 保溼, 鎮靜消炎	0	0	1
Allantoin 尿囊素	肌膚調理, 鎮靜消炎, 抗敏	0	0	1
Hydroxyethyl Acrylate/Sodium Acryloyldimethyl Taurate Copolymer 丙烯酸羥乙酯/丙烯醯二甲基牛磺酸鈉共聚物	界面劑, 黏度控制			1
Sorbitan isostearate 失水山梨醇異硬脂酯, 山梨坦異硬脂酸酯	乳化劑	2		1
Xanthan Gum 黃原膠, 三仙膠, 山羊膠, 漢生膠	界面劑, 黏度控制			1
Ammonium Acryloyldimethyltaurate/VP Copolymer 丙烯醯二甲基牛磺酸銨/VP 共聚物	界面劑, 黏度控制			1
Hydroxyethylcellulose 羥乙基纖維素	黏度控制			1
Trisodium EDTA EDTA-三鈉				1

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