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PÜR Cosmetics 4-in-1 Pressed Mineral Makeup Foundation with Skincare Ingredients
成份 概略特性 粉刺 刺激 安心度
Titanium Dioxide 17.0 % Inactive MICA
二氧化鈦
色料, 防曬 0 0 2-6
Bismuth Oxychloride
氯氧化鉍
色料 1
Caprylic/Capric Triglyceride
辛酸/癸酸三酸甘油酯, 辛酸/癸酸甘油三酯, ...
香料, 肌膚調理 1
Boron nitride
氮化硼, 一氮化硼
1
Zinc Stearate
硬脂酸鋅
色料, 乳化劑 0 0 2
Magnesium Silicate
矽酸鎂
黏度控制 1
Sodium Starch Octenylsuccinate
澱粉辛烯基琥珀酸鈉, 辛烯基琥珀酸鈉澱粉
黏度控制, 乳化劑 1
Mannitol
木蜜醇, 甘露醇, 甘露糖醇
肌膚調理, 保溼 1
Sodium gluconate
葡糖酸鈉
1
Citric Acid
檸檬酸
酸鹼調節 1-2
Sodium Citrate
檸檬酸鈉, 枸櫞酸鈉
酸鹼調節, 抗氧化 1
Waltheria Indica Leaf Extract
蛇婆子葉萃取
肌膚調理 1
Dextrin
糊精
黏度控制 1
Ferulic Acid
阿魏酸
抗氧化 1-2
Lactic Acid
乳酸
肌膚調理, 去角質, 收斂 1-4
Butyrospermum Parkii Butter
乳油木果脂, 雪亞脂, 乳木果, 乳油木, ...
保溼, 油性滋潤, 柔潤劑 1
Retinol
A醇, 視黃醇, 維生素A醇, 維他命A醇
6-9
Ceramide AP
分子酊 6 II, 神經醯胺 6 II, ...
肌膚調理 1
Silica
矽石, 石英, 二氧化矽
黏度控制
Tocopheryl Acetate
醋酸鹽維他命E, 醋酸生育酚酯, 生育酚醋酸酯, ...
肌膚調理, 保溼, 抗氧化 0 0 2-3
Aqua
溶劑 1
GLUCOSAMINE HCl
氨基葡糖 HCL, 葡糖胺 HCL
抗靜電 1
Pisum Sativum Extract
豌豆萃取
肌膚調理 1
Bambusa Vulgaris Leaf/stem Extract
龍頭竹葉/莖萃取
保溼
Magnesium Carbonate
碳酸鎂
1
Iron Oxides (CI 77491, CI 77492, CI 77499)
氧化鐵
色料 0 0 2
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