Amend Pós Progressiva Máscara 成份

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發表於 2023-10-31 , 資料來源：官方網站

成份	概略特性	粉刺	刺激	安心度
Aqua 水	溶劑			1
Cetearyl Alcohol 棕櫚醇, 鯨蠟硬脂醇	界面劑, 黏度控制, 乳化劑	2	2	1
Ethylhexyl stearate 硬脂酸乙基己酯	柔潤劑			1
Dibutyl adipate 己二酸二丁酯	柔潤劑			1
Cetrimonium chloride 西曲氯銨, 十六烷基三甲基氯化銨	界面劑, 防腐劑, 抗靜電			4
Behentrimonium methosulfate 山崳基三甲基硫酸甲酯銨, 山崳基三甲基銨甲基硫酸鹽	防腐劑			4
Parfum 香料, 香水, 香精, 香味	香料			4
DimethylPABAmidopropyl Laurdimonium Tosylate 二甲基PABA醯胺丙基月桂基二甲基銨甲苯磺酸鹽	抗靜電			1-2
Olea Europaea Fruit Oil 橄欖油, 橄欖果油, 油橄欖果殼油	溶劑, 香料, 油性滋潤, 柔潤劑	2	0	1
Amodimethicone 氨基封端二甲基聚矽氧烷, 氨端聚二甲基矽氧烷	抗靜電			1
Acorus Calamus Root Extract 菖蒲根萃取	香料, 肌膚調理			1
Cinnamomum Zeylanicum Bark Extract 錫蘭肉桂樹皮萃取	香料, 肌膚調理, 保溼, 抗氧化, 收斂, 柔潤劑			3
Commiphora Myrrha Resin Extract 沒藥樹脂萃取	肌膚調理			1
Disodium EDTA 乙二胺四乙基二鈉, 乙酸乙二胺二鈉, ...	黏度控制			1
Sodium PCA 咯烷酮羧酸鈉, 鈉羥基皮酪烷酮, PCA 鈉, ...	抗靜電, 肌膚調理, 保溼	0	0	1
Sodium Lactate 乳酸鈉	酸鹼調節, 保溼, 去角質			1-3
BHT 二丁基羥基甲苯, 丁羥甲苯, 丁基羥基甲苯	抗氧化			3
C11-15 pareth-7 C11-15 烷醇聚醚-7, ...	乳化劑			1
Arginine 精氨酸	抗靜電, 肌膚調理, 保溼			1
Glycerin 甘油, 丙三醇	溶劑, 黏度控制, 肌膚調理, 保溼	0	0	1-2
Laureth-9 月桂醇聚醚-9	乳化劑			1-3
Trideceth-12 十三烷基聚氧乙烯醚 12, 十三烷醇聚醚-12	界面劑			1
D-limonene 檸檬油精, 柑橘皮粹取, 苧烯	溶劑, 香料			4-5
Aspartic acid 天冬氨酸, 天門冬氨酸	抗靜電, 保溼			1
PCA 吡咯烷酮羧酸	保溼			2
Glycine 甘氨酸, 左旋甘氨酸, 糖膠, 氨基乙酸, ...	肌膚調理			1
Alanine 丙氨酸, 丙胺酸	抗靜電, 保溼			1
Serine 絲氨酸, 絲胺酸	抗靜電, 保溼			1
Valine 纈氨酸, L-纈氨酸	抗靜電			1
Isoleucine 異亮氨酸	抗靜電			1
Proline 脯氨酸	抗靜電, 保溼			1
Threonine 蘇氨酸, 酥胺酸	抗靜電			1
Methylchloroisothiazolinone & Methylisothiazolinone 暫無	防腐劑
Histidine 組氨酸	抗靜電, 保溼			1
Phenylalanine 苯丙氨酸	抗靜電			1
Phenylalanine. Nutri-Amino Aqua 無符合資料

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