SHISEIDO (资生堂) ｄプログラムデーリペアミスト成份 | CosDNA

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发表于 2017-01-03 , 资料来源：官方网站

成分	概略特性	粉刺	刺激	安心度
Aqua 水	溶剂			1
Butylene Glycol ＢＧ	溶剂, 香料, 黏度控制, 肌肤调理, 保湿	1	0	1
Erythritol エリスリトール赤藓醇	保湿			1
PEG/PPG-14/7 dimethyl ether ＰＥＧ／ＰＰＧ－１４／７ジメチルエーテル PEG/PPG-14/7 二甲醚, ...	表面剂, 保湿			1-3
Sodium phenolsulfonate フェノールスルホン酸Ｎａ苯酚磺酸钠
Artemisia Princeps Leaf Extract ヨモギ葉エキス魁蒿叶提取物	肌肤调理			1
Saxifraga Sarmentosa Extract ユキノシタエキス草莓虎耳草提取物	肌肤调理			1
Dipotassium Glycyrrhizate グリチルリチン酸２Ｋ甘草酸钾, 甘草酸二钾盐, 甘草酸二钾	镇静消炎, 抗敏			1
Glycerol グリセリン甘油, 丙三醇	溶剂, 黏度控制, 肌肤调理, 保湿	0	0	1-2
PPG-13-Decyltetradeceth-24 ＰＰＧ－１３デシルテトラデセス－２４聚丙二醇-13癸基四癸醇-24, ...	乳化剂			1
Sodium Citrate クエン酸Ｎａ柠檬酸钠, 枸橼酸钠	酸碱调节, 抗氧化			1
PCA ethyl cocoyl arginate ココイルアルギニンエチルＰＣＡ PCA 椰子酰精氨酸乙酯盐, ...	表面剂, 抗静电			1
Citric Acid クエン酸柠檬酸	酸碱调节			1-2
vitamin E トコフェロール生育醇, 生育酚, 维他命E, 维生素E, ...	抗氧化	2-3	2	1
Phenoxyethanol フェノキシエタノール苯氧乙醇, 苯氧基乙醇, 二苯氧基乙醇	防腐剂			2-4

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