SHISEIDO (資生堂) ｄプログラムデーリペアミスト成份 | CosDNA

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發表於 2017-01-03 , 資料來源：官方網站

成份	概略特性	粉刺	刺激	安心度
Aqua 水	溶劑			1
Butylene Glycol ＢＧ	溶劑, 香料, 黏度控制, 肌膚調理, 保溼	1	0	1
Erythritol エリスリトール赤蘚醇	保溼			1
PEG/PPG-14/7 dimethyl ether ＰＥＧ／ＰＰＧ－１４／７ジメチルエーテル PEG/PPG-14/7 二甲醚, ...	界面劑, 保溼			1-3
Sodium phenolsulfonate フェノールスルホン酸Ｎａ苯酚磺酸鈉
Artemisia Princeps Leaf Extract ヨモギ葉エキス魁蒿葉萃取	肌膚調理			1
Saxifraga Sarmentosa Extract ユキノシタエキス草莓虎耳草萃取	肌膚調理			1
Dipotassium Glycyrrhizate グリチルリチン酸２Ｋ甘草酸鉀, 甘草酸二鉀鹽, 甘草酸二鉀	鎮靜消炎, 抗敏			1
Glycerol グリセリン甘油, 丙三醇	溶劑, 黏度控制, 肌膚調理, 保溼	0	0	1-2
PPG-13-Decyltetradeceth-24 ＰＰＧ－１３デシルテトラデセス－２４聚丙二醇-13癸基四癸醇-24, ...	乳化劑			1
Sodium Citrate クエン酸Ｎａ檸檬酸鈉, 枸櫞酸鈉	酸鹼調節, 抗氧化			1
PCA ethyl cocoyl arginate ココイルアルギニンエチルＰＣＡ PCA 椰子醯精氨酸乙酯鹽, ...	界面劑, 抗靜電			1
Citric Acid クエン酸檸檬酸	酸鹼調節			1-2
vitamin E トコフェロール生育醇, 生育酚, 維他命E, 維生素E, ...	抗氧化	2-3	2	1
Phenoxyethanol フェノキシエタノール苯氧乙醇, 苯氧基乙醇, 二苯氧基乙醇	防腐劑			2-4

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