SHISEIDO (資生堂) - Anessa Essence UV Sunscreen Mild Milk For Sensitive Skin SPF 35 PA+++ 成份

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發表於 2019-10-13 , 資料來源：其他網站

成份	概略特性	粉刺	刺激	安心度
Methyl methacrylate crosspolymer 甲基丙烯酸甲酯交聯聚合物				1
Cyclopentasiloxane 環戊矽氧烷, 聚矽氧化合物, 十甲基環五矽氧烷, ...	溶劑, 柔潤劑			3
Water 水	溶劑			1
Diisopropyl sebacate 癸二酸二異丙酯	柔潤劑			1
Cetyl Ethylhexanoate 鯨蠟硬脂醇辛酸酯, 辛酸十六酯, 鯨蠟辛酸, ...	合成酯, 黏度控制, 柔潤劑			1
Pentaerythrityl tetraethylhexanoate 季戊四醇四辛酸酯, 季戊四醇四（乙基己酸）酯	黏度控制, 柔潤劑			1
Triethylhexanoin 三異辛酸甘油酯, 甘油三(乙基己酸)酯	合成酯, 柔潤劑			1
Zinc Oxide 氧化鋅	收斂, 防曬	1	0	2-6
Diethylhexyl succinate 二乙基己基琥珀酸酯, 琥珀酸二乙基己酯	溶劑, 柔潤劑	2		1
Dimethicone 矽靈, 地美司康, 二甲基矽酮, 二甲矽油, ...	肌膚調理, 柔潤劑	1	0	1-3
Glycerin 甘油, 丙三醇	溶劑, 黏度控制, 肌膚調理, 保溼	0	0	1-2
Dextrin palmitate 糊精棕櫚酸酯	乳化劑			1
Polymethylsilsesquioxane 聚甲基矽倍半氧烷				1
PEG-9 Polydimethylsiloxyethyl Dimethicone PEG-9 聚二甲基矽氧乙基聚二甲基矽氧烷	肌膚調理, 乳化劑			3
Ethylhexyltriazone 乙基己基三嗪宗, 乙基己基三嗪酮	防曬			1
Disteardimonium Hectorite 二硬脂基二甲基胺鋰皂石, 二硬脂二甲銨鋰蒙脫石	黏度控制			1
Bisethylhexyloxyphenolmethoxyphenyltriazine 基)6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三嗪, 雙-乙基己氧苯酚甲氧苯基三嗪...	防曬			1
PEGPPG147Dimethylether PEG/PPG-14/7 二甲醚, ...	界面劑, 保溼			1-3
PEG-10 Dimethicone PEG-10 聚二甲基矽氧烷	界面劑, 柔潤劑			3
Citric Acid 檸檬酸	酸鹼調節			1-2
Stearic Acid 硬脂酸, 18酸, 十八酸, 己基癸醇硬脂酸酯	界面劑, 黏度控制, 乳化劑	2	0	1
Tocopherol 生育醇, 生育酚, 維他命E, 維生素E, ...	抗氧化	2-3	2	1
trimethylsiloxy silicic acid 無符合資料
hexyl diethyl amino hydroxy benzoyl benzoate 無符合資料
Na chloride 無符合資料
Glycyrrhizinic acid 2K 無符合資料
Touki root extract 無符合資料
Wild thyme extract 無符合資料
Izayoi rose extract 無符合資料
Hyaluronic acid Na Silica 無符合資料
metabisulfite Na 無符合資料

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