AYSWE 雷公根舒敏修護面膜成份 | CosDNA

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發表於 2019-08-28 , 資料來源：官方網站

成份	概略特性	粉刺	刺激	安心度
Water 水	溶劑			1
Glycerin 甘油, 丙三醇	溶劑, 黏度控制, 肌膚調理, 保溼	0	0	1-2
Sodium levulinate 乙醯丙酸鈉	肌膚調理			1
Sodium anisate 茴香酸鈉, 4-甲氧基苯甲酸鈉				1
Sodium Hyaluronate 玻尿酸鈉, 透明質酸鈉, 玻璃酸鈉	肌膚調理, 保溼	0	0	1
Glycosyl Trehalose 醣基海藻糖, 糖基海藻糖, 氫化澱粉水解物	保溼			1
Hydrogenated starch hydrolysate 醣基海藻糖, 糖基海藻糖, 氫化澱粉水解物	保溼			1
Xanthan Gum 黃原膠, 三仙膠, 山羊膠, 漢生膠	界面劑, 黏度控制			1
Leontopodium alpinum 火絨草, 雪絨花, 薄雪草	保溼, 收斂			1
Citric Acid 檸檬酸	酸鹼調節			1-2
Sodium Benzoate 苯甲酸鈉, 安息香酸鈉	防腐劑			1-3
Potassium Sorbate 山梨酸鉀, 己二稀酸鉀, 己二烯酸鉀	防腐劑			2
Caprylic/Capric Triglyceride 辛酸/癸酸三酸甘油酯, 辛酸/癸酸甘油三酯, ...	香料, 肌膚調理	1		1
Centella Asiatica Extract 積雪草萃取	肌膚調理, 鎮靜消炎			1
Hydrogenated lecithin 氫化卵磷脂, 氫化卵燐脂	乳化劑			1-2
Cholesterol 膽固醇	黏度控制, 肌膚調理, 柔潤劑, 乳化劑	0	0	1
Polysorbate 20 聚山梨醇酯 20, 吐溫20, 聚山梨醇酯-20	界面劑, 乳化劑	0	0	3
Dipotassium Glycyrrhizinate 甘草酸鉀, 甘草酸二鉀鹽, 甘草酸二鉀	鎮靜消炎, 抗敏			1
ScutellariaAlpinaFlowerLeafStemExtract 高山黃芩花/葉/莖萃取	肌膚調理
Niacinamide 菸鹼胺, 菸醯胺, 煙醯胺, 菸鹼醯酸	肌膚調理			1
Dipeptide Diaminobutyroyl Benzylamide Diacetate 二胜肽, 二肽-2	保溼			1
Disodium EDTA 乙二胺四乙基二鈉, 乙酸乙二胺二鈉, ...	黏度控制			1
Tocopheryl Acetate 醋酸鹽維他命E, 醋酸生育酚酯, 生育酚醋酸酯, ...	肌膚調理, 保溼, 抗氧化	0	0	2-3
Hydroxyethyl ethylcellulose 羥乙基乙基纖維素	黏度控制, 乳化劑			1

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